コラム

 

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業界誌記事

寄稿


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目が離せない次世代リソグラフィ技術の動向(その2)
加藤俊夫 寄稿
article_06.pdf
PDFファイル 2.1 MB
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エレクトロニクス実装技術 第30巻5号掲載 「メモリの大革命 3次元NANDフラッシュ」
加藤俊夫 寄稿
article_04.pdf
PDFファイル 1.4 MB
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半導体産業人協会の会報より 「日本の家電復活の道」
川名喜之 寄稿
article_02.pdf
PDFファイル 280.1 KB
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目が離せない次世代リソグラフィ技術の動向(その1)
加藤俊夫 寄稿
article_05.pdf
PDFファイル 1.8 MB
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エレクトロニクス実装技術 第30巻1号掲載 「東京通信工業、日本初のトランジスタ及びトランジスタラジオ量産成功の軌跡」
川名喜之 寄稿
article_03.pdf
PDFファイル 1.1 MB
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「ソニー初期の躍進と経営陣の苦闘」社団法人 科学技術と経済の会(JATES)発行 「技術と経済」誌5月号掲載
川名喜之 寄稿
article_01.pdf
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CMOS LSI 最先端技術動向

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22nm 以降の微細化に伴う課題を徹底検証
report002.pdf
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Technology Plus

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優れた特性を誇る SiC
report001.pdf
PDFファイル 1.1 MB


BCM関連

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事業継続マネージメントの観点から見た半導体・LCD工場の地震対策
この記事は(株)工業調査会のご協力により、「電子材料」2月号より転載しています。
report_denshi.pdf
PDFファイル 1.2 MB
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半導体/LCD工場の省エネ・環境・災害対策
この記事は、(株)テクノタイムズ社のご協力により、「月刊ディスプレイ誌」より転載しています。
report_disp.pdf
PDFファイル 1.5 MB
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(同上、韓国語)
report_disp_hangeul.pdf
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Success Journal

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No. 7 「テレビ用ディスプレーパネル産業の行方」
success_j_no7.pdf
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No. 5 「シリコン技術の将来像 IEDM Keynoteより」
success_j_no5.pdf
PDFファイル 62.0 KB
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No. 3 「日本企業のものつくり革新(第3回)」
success_j_no3.pdf
PDFファイル 370.5 KB
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No. 1 「日本企業のものつくり革新(第1回)」
success_j_no1.pdf
PDFファイル 79.4 KB
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No. 6 「頑張るHDD産業」
success_j_no6.pdf
PDFファイル 580.2 KB
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No. 4 「日本企業のものつくり革新(第4回)」
success_j_no4.pdf
PDFファイル 647.2 KB
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No. 2 「日本企業のものつくり革新(第2回)」
success_j_no2.pdf
PDFファイル 87.4 KB


半導体入門講座

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第 24回 「半導体産業の将来と他産業への波及効果」
report24.pdf
PDFファイル 1.0 MB
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第 21回 「半導体の生産現場を訪ねて②」
report21.pdf
PDFファイル 932.9 KB
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第 18回 「ディスクリート①ダイオード」
report18.pdf
PDFファイル 1'018.4 KB
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第 15回 「ロジック LSI」
report15.pdf
PDFファイル 1.7 MB
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第 12回 「DRAM」
report12.pdf
PDFファイル 1.9 MB
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第9回 「CMOS LSI のプロセス⑤」
report09.pdf
PDFファイル 2.3 MB
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第6回 「CMOS LSI のプロセス②」
report06.pdf
PDFファイル 2.0 MB
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第3回 「シリコン結晶の製作」
report03.pdf
PDFファイル 3.9 MB
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第 23回 「半導体の生産現場を訪ねて④」
report23.pdf
PDFファイル 777.8 KB
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第 20回 「半導体の生産現場を訪ねて①」
report20.pdf
PDFファイル 804.3 KB
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第 17回 「LSI 設計技術」
report17.pdf
PDFファイル 2.5 MB
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第 14回 「その他のメモリ」
report14.pdf
PDFファイル 2.1 MB
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第 11回 「半導体デバイス」
report11.pdf
PDFファイル 2.6 MB
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第8回 「CMOS LSI のプロセス④」
report08.pdf
PDFファイル 2.4 MB
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第5回 「CMOS LSI のプロセス①」
report05.pdf
PDFファイル 2.2 MB
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第2回 「CMOS LSI の紹介」
report02.pdf
PDFファイル 2.6 MB
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第 22回 「半導体の生産現場を訪ねて③」
report22.pdf
PDFファイル 806.8 KB
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第 19回 「ディスクリート②トランジスタ」
report19.pdf
PDFファイル 1.1 MB
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第 16回 「イメージセンサ」
report16.pdf
PDFファイル 1.1 MB
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第 13回 「フラッシュメモリ」
report13.pdf
PDFファイル 2.2 MB
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第 10回 「CMOS LSI のプロセス⑥」
report10.pdf
PDFファイル 2.2 MB
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第7回 「CMOS LSI のプロセス③」
report07.pdf
PDFファイル 2.4 MB
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第4回 「リソグラフィ」
report04.pdf
PDFファイル 2.1 MB
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第1回 「半導体の物性」
report01.pdf
PDFファイル 2.7 MB


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 報告書

『初期のソニーCCD開発物語』

半導体産業人協会 会報No89(‘15 年 7 月)

川名 喜之

『シリコントランジスタの開発とソニー』

半導体産業人協会 会報 No.86(‘14 年 10 月)

川名 喜之

『ソニーのトランジスタテレビ用トランジスタの開発

半導体シニア協会ニューズレターNo.60(’09年1月)

川名 喜之

『セル生産方式をヒントに低コスト化、0.25μmSOCでも収益は大』
Electronic Journal 2003
3月号 頁70

加藤 俊夫

『シニアが設立したベンチャー・3年間のレポート』
半導体シニア協会 ニューズレター35

加藤 俊夫

『ナノインプリント技術のLSIプロセス適用への可能性』
Electronic Journal 2005
2月号 頁82

加藤 俊夫

SEMI Forum Japan 2001報告 2001.9.6こちら

川名 喜之

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初期のソニーCCD開発物語
初期のソニーCCD開発物語.pdf
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シリコントランジスタの開発とソニー
シリコントランジスターの開発とソニー.pdf
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ソニーのトランジスタテレビ用トランジスタの開発
トランジスタテレビ用トランジスタの開発.pdf
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